Erzeugung dünner Funktionsschichten mittels plasmaunterstützter chemischer Gasphasenabscheidung

Die Anwendung von Plasmen zur Beschichtung von Oberflächen bietet großes Potential, bestehende Prozesse zu vereinfachen und neuartige Funktionsoberflächen zu erzeugen. Durch die Verwendung von Plasmen können einfachere, kostensparende und besser handhabbare Arbeitsgase als in der klassischen chemischen Gasphasenabscheidung verwendet werden. Gleichzeitig steigert die Anwendung von Plasmen die Reaktions- und somit die Prozessgeschwindigkeit oftmals erheblich, und bietet die Möglichkeit, neue und vereinfachte Wege der Oberflächenbehandlung zu erschließen. Der Vortrag gibt einen kurzen Einblick in die Möglichkeiten der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung metallischer, anorganischer und organischer Schichten. Anhand aktueller Ergebnisse und Projekte aus dem Bereich des Clausthaler Zentrums für Materialtechnik werden dabei typische Schwierigkeiten und Lösungsstrategien für die technische Umsetzung präsentiert.